抛光粉有哪些種類

　　常用的抛光粉來自混合稀土，輔以氟化物、石英、鈣、鋇、鐵和少量其他雜質。20世紀60年代至70年代,抛光粉的制備工藝和生産方法取得瞭(le)相對集中的研究成果。常用的制備工藝是使稀土富集物在固态下發生化學變化,從而轉化爲機械化學性能穩定的化合物。稀土氧化物含量爲40~70% (含30~65%的氧化物) , 粒度爲1~4微米。該抛光粉價格相對便宜，切割率高，應用很廣。主要用於(yú)陰極射線管、平闆玻璃和鏡片的抛光。 第二類氧化物基抛光粉採用化學沉澱法生産。

　　稀土沉澱煅燒成穩定的氧化物,磨成細粉。通常含有70~100%的稀:土氧化物(含40~100%的氧化物)。該産品的優點是成分均勻，顆粒尺寸和形狀一緻性好,但主要用於(yú)光學玻璃。特殊玻璃的抛光採(cǎi)用高水平抛光粉(99%以上的氧化物)。其顆粒形狀和硬度均勻，純度高，表面均勻，無缺陷，無雜質污染。常用於(yú)精密光學儀器、激光晶體和半導體元件的抛光。稀土抛光粉的要求不同於(yú)類似的稀士産品。就抛光粉而言，雖然對化學純度也有要求 ,但它不是決定性因素，而是決定性因素。

　　因此，稀土抛光粉的制備(bèi)須在一定化學含量的基礎上賦予其應有的物理特性，如粒徑、均均性、晶體性質、硬度、比例等。這些特性須在制備(bèi)過程中(包括沉澱和煅燒)進行調整。首先，産生抛光粉的母體化合物(即各種稀士鹽化合物)及其沉澱加工工藝。因爲它們決定瞭(le)産品的粒度特性和晶體特性，如氫氧化、碳酸和草酸，它們的煅燒産品在粒度和抛光性能上有很大的差異。